是半導體產業(yè)*關鍵的材料。

對于「造芯」，光刻膠有多重要？

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。

一般的半導體生產過程需要經過光刻工藝，在光刻和蝕刻生產環(huán)節(jié)中，光刻膠涂覆于晶體薄膜表面，經曝光、顯影和蝕刻等工序將光罩(掩膜版)上的圖形轉移到薄膜上，形成與掩膜版對應的幾何圖形。

在PCB領域，光刻膠分為干膜光刻膠、濕膜光刻膠、光成像阻焊油墨，主要用作微細圖形加工。

總結而言，光刻膠是IC制造的核心耗材，其質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。約占IC制造材料總成本的5%。

光刻膠的儲存和運輸

光刻膠是在半導體制造過程中使用的一種重要材料。它是一種可以通過光（例如紫外線）來改變其化學性質的材料，進而可以用來在硅片上形成微小的圖案。由于光刻膠的化學性質，對于存儲和運輸的條件要求尤為苛刻。

如果光刻膠的儲存或運輸溫度過高，可能會對其化學性質產生**影響，可能會出現以下幾種情況：

1.物理性質改變：過高的溫度可能會導致光刻膠的粘度降低。粘度是液體阻力的度量，關系到光刻膠的涂覆過程。如果粘度降低，可能會影響涂覆的均勻性和厚度。高溫可能加速光刻膠中溶劑的揮發(fā)，導致固含量增加。這可能影響到光刻膠涂覆后的干燥速度，以及圖案形成的質量。高溫可能會破壞光刻膠中微粒的穩(wěn)定狀態(tài)，使其發(fā)生沉淀或聚集，影響涂覆過程的均勻性。

2.化學反應：光刻膠是由一系列復雜的化學物質組成的，過高的溫度可能會引發(fā)一些預期之外的化學反應，影響光刻膠的性能。光刻膠中的一些單體或預聚物在高溫下可能會加速聚合，導致光刻膠的粘度、固含量或光敏性發(fā)生變化。

二、避光處理
光刻膠對光，尤其是紫外線非常敏感。暴露在光線中可能會引發(fā)光刻膠的光化學反應，使得其性質發(fā)生改變，因此在儲存和運輸過程中，需要對光刻膠做好避光處理。在儲存和運輸光刻膠的過程中，可以使用不透光的材料進行包裝，例如不透光的塑料瓶或者金屬罐。這可以有效阻擋光線對光刻膠的影響。將光刻膠存儲在無窗或者窗戶有遮光窗簾的室內環(huán)境，避免光線直接照射到光刻膠。在運輸過程中，也可以使用遮光的運輸工具。在使用過程中，盡量減少光刻膠暴露在光線下的時間。在不使用時，立即將光刻膠放回遮光的儲存環(huán)境。

光刻膠在全球市場上越來越占據重要地位。

然而，光刻膠屬于高技術壁壘材料，需要與光刻機配合使用，生產復雜，純度要求高，需要長期技術積累。光刻膠產業(yè)是典型的技術和資本雙密集型產業(yè)，其中，半導體光刻膠的生產難度*大。光刻膠市場主要由日本和美國壟斷，其中日本占比72%，而大陸企業(yè)市占率不足13%。

所以想不再受制于人，光做出國產**光刻機還不行，原材料方面也必須實現**自主化。

根據官方資料顯示，徐州博康成立于2010年3月，位于江蘇省邳州經濟開發(fā)區(qū)，是一家集研發(fā)、生產、經營中**光刻膠、光刻膠單體和光刻膠樹脂為主的國家高新技術企業(yè)。

徐州博康一直很低調，所以不被大眾熟知，但是他在海外的知名度可不低，常年給國外光刻膠大廠提供核心原材料，客戶包括JSR、TOK、東麗等等。同時，徐州博康還擁有自主且完整的光刻膠產業(yè)鏈，已經實現從單體材料、專用樹脂、光酸以及*終光刻膠產品的全品類國產化，也是目前國內**一家可以規(guī)模化生產中**光刻膠單體材料的企業(yè)。

眾所周知，華為正在全力攻克半導體領域里的各種關鍵技術和設備，此次其全資子公司哈勃入股徐州博康，也意味著華為正式進入了光刻膠領域。

所以，我們也希望徐州博康作為我國光刻膠領域的佼佼者，在華為的加持下，能夠幫助中國半導體行業(yè)盡快實現**光刻膠的國產化替代。

那么通過華為不斷地在半導體領域持續(xù)投資，我們也能夠感受到，華為極有可能正在培育自己的半導體產業(yè)鏈，如果這是真的，那么對于國產半導體行業(yè)來說，必然是一針強心劑。*后也希望徹底打破封鎖圈的那**，能夠早日到來。